布局設(shè)置：

1、左側(cè)花灑，右側(cè)水槍。

2、QDR用4寸使用時配置一個小支撐。

3、CASS是在滿水溢流頁面2cm下。

4、水溢流有閥門可控，并加裝流量計，調(diào)節(jié)時可直觀目視流量。

二、主要結(jié)構(gòu)特征和工藝說明

2.1 結(jié)構(gòu)特征：

2.1.1無接觸式晶圓下片機主要由主軸旋轉(zhuǎn)部分，片盒夾具，工作腔，機架，門蓋部分，QDR槽，潔凈管路部分， 電氣控制等組成。

2.1.2外殼材質(zhì)： 進口 PP 板外殼。

2.1.3旋轉(zhuǎn)機構(gòu)為端面支撐， 縮短傳動軸長度， 并經(jīng)精密的動平衡處理， 減少設(shè)備共振等

2.1.4采用專用步進電機及控制器， 保證設(shè)備的穩(wěn)定、 可靠及滿足系統(tǒng)對潔凈度處理的要求。

2.1.5管路系統(tǒng)： PFA 潔凈管路。

2.2 工作臺及載體：

2.2.1工作臺數(shù)量∶ 1 個 材質(zhì)為 PP 板 ，支持陶瓷盤外徑 485mm（需更換夾具） 。

2.2.2規(guī)格∶ 加工尺寸 2-6 英寸。

2.3 純水控制單元：

2.3.1采用旋流式?jīng)_洗噴嘴。

2.3.2管路采用 PFA 潔凈管路。

2.4 電控單元及軟件系統(tǒng)：

2.4.1甩干工藝過程由 PLC 控制器+觸摸屏控制， 可選擇設(shè)置多種用戶工藝菜單， 并對每 個。

2.4.2菜單的內(nèi)容如： 時間、 速度參數(shù)進行設(shè)置。

2.4.3系統(tǒng)軟件還具有密碼權(quán)限設(shè)置， 故障顯示及報警功能。 設(shè)備出現(xiàn)故障時， 系統(tǒng)會停止。

2.4.4工作并顯示錯誤信息、 報警以提示更改和維修。

2.5 工藝說明：

2.5.1通過手動方式實現(xiàn)放件和取件操作，具體步驟如下：

2.5.2?放置晶圓?：操作員將待清洗的晶圓手動放置在陶瓷盤上。

2.5.3?啟動清洗程序?：設(shè)置清洗參數(shù)，啟動清洗程序。

2.5.4?清洗過程?：設(shè)備自動完成晶圓的沖洗和干燥。

2.5.5?取出晶圓?：清洗完成后，操作員手動取出已清洗的晶圓。

三、主要技術(shù)參數(shù)