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晶圓單片清洗甩干機,晶圓單片清洗機,晶圓雙面清洗甩干機,單片濕法清洗機

應(yīng)用領(lǐng)域RCA清洗,:沉積前清洗,蝕刻后清洗,CMP后清洗,濕法刻蝕,EPI前清洗等晶圓尺寸:50~300mm工藝指標蝕刻均勻性:片內(nèi):≤3%;片間:≤3%;批次間:≤3%;顆??刂?增加值<20顆@0.3微米可根據(jù)要求定制金屬離子:<5E10 atoms/cm2設(shè)備配置:1個清洗工位手動放片支持化學液加熱控制,濃度控制,流量控制,壓力控制等(可選)酸、堿、有機液排風分離(可選)支持化

圖片關(guān)鍵詞

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應(yīng)用領(lǐng)域

RCA清洗,:沉積前清洗,蝕刻后清洗,CMP后清洗,濕法刻蝕,EPI前清洗等

晶圓尺寸:50~300mm

工藝指標

蝕刻均勻性:片內(nèi):≤3%;片間:≤3%;批次間:≤3%;顆??刂?增加值<20顆@0.3微米可根據(jù)要求定制

金屬離子:<5E10 atoms/cm2

設(shè)備配置:

1個清洗工位

手動放片

支持化學液加熱控制,濃度控制,流量控制,壓力控制等(可選)酸、堿、有機液排風分離(可選)

支持化學液回收(可選)

高清攝像頭,純水防靜電裝置(可選)全面支持SECS/GEM通訊協(xié)議(可選)

主要技術(shù)參數(shù)

項目

主要性能指標和參數(shù)

加工硅片尺寸

2-12 英寸圓片

單次甩干數(shù)量

1

位數(shù)量(個)

1

旋轉(zhuǎn)速度 RPM/MIN

10-5000

清洗方式

雙面清洗(正面擺臂,背面噴嘴斜射)

藥液噴嘴

2路 晶圓上下面 1/4英寸 PFA管直出或噴嘴

吹氣功能

常溫氮氣 1/4英寸 PFA管直出或噴嘴

藥液槽

2個 材料PVDF 15L

供藥方式

PVDF 隔膜泵/磁力泵

藥液流量調(diào)節(jié)

PTFE手閥

氮氣流量調(diào)節(jié)

PTFE手閥

純水流量調(diào)節(jié)

PTFE手閥

藥液流量監(jiān)控

實時監(jiān)測和上下限報警可選

氮氣流量監(jiān)控

實時監(jiān)測和上下限報警可選

排風風壓監(jiān)控

實時監(jiān)測和上下限報警可選

排風流量監(jiān)控

實時監(jiān)測和上下限報警可選

制程運行關(guān)鍵參數(shù)歷史記錄

可選

上位機通訊

可選

清洗甩干時間

2-5min

氮氣壓力

0.15Mpa,氮氣管接口1/4英寸

純水壓力

0.2Mpa, 管接口1/4英寸

排水管

19mm卡套接頭

顯示/控制系統(tǒng)

4.3寸觸摸屏/PLC可編程控制器

電源

220V

整機功率

2KW

外型尺寸(深*寬*高)mm

450mm*寬450mm*高550mm

 


關(guān)聯(lián)內(nèi)容